
Stroj za fizičko taloženje parom
Tehnologija fizičkog taloženja iz pare (Physical Vapor Deposition, PVD) odnosi se na korištenje fizikalnih metoda u uvjetima vakuuma, izvor materijala - čvrsta ili tekuća površina se isparava u plinovite atome, molekule ili djelomično ionizira u ione, te prolazi kroz plin niskog tlaka (ili plazma). ) proces, tehnika za nanošenje tankog filma s posebnom zadaćom na površinu podloge.
Stroj za fizičko taloženje iz pare
Tehnologija fizičkog taloženja iz pare (Physical Vapor Deposition, PVD) odnosi se na korištenje fizikalnih metoda pod vakuumskim uvjetima, izvor materijala - čvrsta ili tekuća površina se isparava u plinovite atome, molekule ili djelomično ionizira u ione, te prolazi kroz plin niskog tlaka ( ili plazma). ) proces, tehnika za taloženje tankog filma s posebnom funkcijom na površini podloge. Glavne metode fizičkog taloženja iz pare su vakuumsko isparavanje, nanošenje raspršivanjem, nanošenje lučnom plazmom, ionsko nanošenje i epitaksija snopom molekula. Do sada, tehnologija fizičkog taloženja parom ne samo da može taložiti metalne filmove, filmove legura, već i spojeve, keramiku, poluvodiče, polimerne filmove itd. Ovaj članak predstavlja tri uobičajene metode taloženja tankih slojeva, uključujući: vakuumsko isparavanje, magnetronsko raspršivanje i luk ionsko nanošenje/taloženje, a sve to pripada fazi fizičke pare. taloženje (PVD).

Primjena

Naša tvrtka




Popularni tagovi: stroj za fizičko taloženje parom, Kina, dobavljači, proizvođači, tvornica, prilagođeno, kupnja, cijena, ponuda
Pošaljite upit








