Stroj za nanošenje PVD premaza za nakit

Taloženje tvrdog filma je tehnologija nanošenja vrlo tankog filma materijala – između nekoliko nanometara do oko 100 mikrometara, ili debljine nekoliko atoma – na površinu "supstrata" koju treba premazati ili na prethodno naneseni premaz da se formira slojeva. Proizvodni procesi taloženja tankog filma u središtu su današnje industrije poluvodiča, solarnih panela, CD-ova, pogona diskova i optičkih uređaja.

Taloženje tankog filma obično se dijeli u dvije široke kategorije – kemijsko taloženje i sustavi premaza za fizičko taloženje parom.

Postoje mnoge vrste magnetronskog raspršivanja u vakuumskim pećima. Svaki ima različite principe rada i objekte primjene. Ali imaju jednu zajedničku stvar: interakcija između magnetskog polja i elektrona uzrokuje da se elektroni spiralno okreću oko ciljane površine, čime se povećava vjerojatnost elektronizacije plina argona radi stvaranja iona. Generirani ioni udaraju u površinu mete pod djelovanjem električnog polja i raspršuju metu. U razvoju posljednjih desetljeća postupno su usvojeni trajni magneti, a magneti sa zavojnicama se rijetko koriste.

Ciljni izvor se dijeli na uravnotežene i neuravnotežene vrste. Uravnoteženi ciljni izvor ima jednoliku prevlaku, a neuravnoteženi ciljni izvorni premaz ima snažnu silu vezivanja s podlogom. Uravnoteženi metni izvori uglavnom se koriste za poluvodičke optičke filmove, a neuravnoteženi meti se uglavnom koriste za habajuće dekorativne filmove.

Bez obzira na ravnotežu ili neravnotežu, ako magnet miruje, njegove karakteristike magnetskog polja određuju da je opća ciljana stopa iskorištenja manja od 30 posto. Kako bi se povećala stopa iskorištenja ciljanog materijala, može se koristiti rotirajuće magnetsko polje. Ali zakretanje magnetskog polja zahtijeva rotirajući mehanizam, au isto vrijeme smanjuje se brzina raspršivanja. Rotirajuća magnetska polja uglavnom se koriste za velike ili skupe mete. Kao što je raspršivanje poluvodičkog filma. Za malu opremu i opću industrijsku opremu često se koristi izvor statičke mete magnetskog polja.

Lako je raspršivati ​​metale i legure s izvorom magnetronske mete u vakuumskoj peći, a paljenje i raspršivanje su vrlo prikladni. To je zato što meta (katoda), plazma i raspršeni dio/vakuumska komora mogu formirati petlju. Ali ako raspršite izolatore kao što je keramika, strujni krug je prekinut. Dakle, ljudi koriste visokofrekventno napajanje i dodaju jaki kondenzator u petlju. Na taj način ciljni materijal postaje kondenzator u izolacijskom krugu. Međutim, napajanje visokofrekventnim magnetronskim raspršivanjem je skupo, brzina raspršivanja je vrlo mala, a tehnologija uzemljenja je vrlo komplicirana, pa ju je teško koristiti u velikoj mjeri. Kako bi se riješio ovaj problem, izumljeno je magnetronsko reaktivno raspršivanje. To jest, korištenje metalne mete, dodavanje argona i reaktivnog plina poput dušika ili kisika. Kada metal pogodi dio, spaja se s reaktivnim plinom i stvara nitride ili okside zbog pretvorbe energije.

Primjena

   Parametar

Naša tvrtka

Popularni tagovi: stroj za nanošenje pvd premaza za nakit, Kina, dobavljači, proizvođači, tvornica, prilagođeno, kupovina, cijena, ponuda