Oprema za vakuumsko metaliziranje

Jesu li PVD premazi sigurni?

Postupci fizičkog taloženja parom su ekološki prihvatljiva tehnika ili tehnika "plating" koja uvelike smanjuje količinu otrovnih tvari koje se moraju koristiti, upravljati i odlagati u usporedbi s drugim "mokrim" procesima koji uključuju tekuće prekursore i kemijske reakcije koje se koriste za postizanje istog rezultata . Budući da je sposoban proizvesti iznimno čiste, čiste i izdržljive premaze, Physical Vapor Deposition je tehnologija izbora za industriju kirurških i medicinskih implantata.

Znate li što je stroj za premazivanje? Uglavnom se odnosi na vrstu premaza koju je potrebno izvesti pod visokim stupnjem vakuuma, uključujući mnoge vrste, uključujući vakuumsko isparavanje iona, magnetronsko raspršivanje, MBE epitaksiju molekularnim snopom, PLD lasersko raspršivanje i mnoge druge.

Vakuumski sustav uključuje mehaničku pumpu, kriogenu pumpu, ventil za grubu obradu, prednji ventil, zasun i vakuum mjerač za detekciju vakuuma. Tijekom magnetronskog raspršivanja, utjecaj dušika, kisika i vodene pare na proces treba svesti na najmanju moguću mjeru, tako da stupanj vakuuma mora biti ispod 0.13 mPa ~ 4 Pa. Općenito se koriste Nowdry pumpa i kriogena pumpa. Suha pumpa se koristi za pumpanje niskog vakuuma. U usporedbi s originalnom mehaničkom uljnom pumpom, može spriječiti ulazak ulja i plina u uljnu pumpu u vakuumsku komoru, onečišćenje podloge i smanjenje prianjanja između filma i podloge. Obično, nakon što se suha pumpa pumpa ispod 6,5 Pa, zasun se otvara, a kriogena pumpa se koristi za pumpanje visokog vakuuma. Kriogenu pumpu karakterizira velika brzina pumpanja, posebno sposobnost uklanjanja vodene pare je vrlo jaka.

Sustav za nanošenje premaza raspršivanjem sastoji se od istosmjernog napajanja, ciljanog materijala, vode za hlađenje, trajnog magneta, uređaja za grijanje podloge, pregrade, zaštitnog sloja itd. Ovo je središnji dio stanice za magnetronsko raspršivanje. Istosmjerno napajanje daje negativan visoki napon od 300-1 000 V i primjenjuje ga na metu, tako da je meta na katodi, a supstrat na anodi. Voda za hlađenje koristi se za hlađenje ciljanog materijala kako bi se spriječilo prebrzo povećanje ciljane temperature zbog raspršivanja. Cjevovod rashladne vode trebao bi biti izrađen od izolacijskih materijala kao što su plastične cijevi, a ne metalne cijevi. Uređaj za grijanje podloge može ukloniti nečistoće poput vodene pare na podlozi, što može poboljšati prianjanje između filma i podloge. Osim toga, za neke metale prikladna temperatura može poboljšati kvalitetu filma.

Primjena

Parametar

Naša tvrtka

Popularni tagovi: oprema za vakuumsko metaliziranje, Kina, dobavljači, proizvođači, tvornica, prilagođeno, kupovina, cijena, ponuda